半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,回收原生多晶硅厂家报价,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,回收原生多晶硅厂家价格,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
它的制备主要是在电弧炉中用碳还原石英砂而成。这样被还原出来的硅的纯度约98-99%,但半导体工业用硅还必须进行高度提纯(电子级多晶硅纯度要求11n,太阳能电池级只要求6n)。
单晶硅片来自于单晶硅硅棒切割,硅棒采取类似蓝宝石等单晶材料的生长方式。因此,其原子排列短程有序、长程也有序,得到的半导体杂质、缺陷相对较少,但相应的成本也更高。多晶硅片来自于多晶硅铸锭切割,硅锭的工艺路线类似钢铁材料。因此,其原子排列仅短程有序,存在晶界。
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